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論文

HIP及びRHIPにより固化処理したCr粒子添加強化型NiAl金属間化合物の特性

石山 新太郎; Buchkremer, H. P.*; St$"o$ver, D.*

日本金属学会誌, 68(9), p.831 - 837, 2004/09

 被引用回数:0 パーセンタイル:0.01(Metallurgy & Metallurgical Engineering)

高温等方加圧処理法(HIP)及び反応高温等方加圧処理法(RHIP)で粉末焼結させたCr分散強化型NiAl金属間化合物を試作し、特にCr粉末を0から30wt.%加えた材料について、その高温強度特性を調べた。その結果、RHIP処理したNiAl+xCrでは、Cr添加量を増やすにしたがって粉末焼結処理温度の低下が見られ、また特にNiAl+25wt.%Cr添加材において873Kで17%程度の良好な高温伸びが400MPaを超える高温強度とともに観察された。一方、HIP処理したNiAl+xCrでは、873KにおいてNiAl+20Crで約600MPaの高温引張り強度を10%の高温伸びとともに達成することができた。

論文

The Characterization of HIP and RHIP consolidated NiAl intermetallic compounds containing chromium particles

石山 新太郎; Buchkremer, H. P.*; St$"o$ver, D.*

Materials Transactions, 44(4), p.759 - 765, 2003/04

 被引用回数:0 パーセンタイル:0.01(Materials Science, Multidisciplinary)

耐熱軽量なNiAl金属間化合物は、ヘリウムガスタービン機器の軽量化に有効であるため、この材料の高温強度強化と延性改善を目指した試作開発を実施した。高温等方加圧処理法(HIP)及び反応高温等方加圧処理法(RHIP)で粉末焼結させたCr分散強化型NiAl金属間化合物を試作し、特にCr粉末を0から30wt.%加えた材料について、その高温強度特性を調べた。その結果、RHIP処理したNiAl+xCrでは、Cr添加量を増やすに従って粉末焼結処理温度の低下が見られ、また特にNiAl+25wt.%Cr添加材において873Kで17%程度の良好な高温伸びが400MPaを超える高温強度とともに観察された。一方、HIP処理したNiAl+xCrでは、873KにおいてNiAl+20Crで600MPaの高温強度を10%の高温伸びとともに達成することができた。

論文

Deuterium absorption properties and crystal structure of UNiAl

山本 琢也*; 石井 慶信; 茅野 秀夫*

Journal of Alloys and Compounds, 269, p.162 - 165, 1998/00

 被引用回数:14 パーセンタイル:65.07(Chemistry, Physical)

U$$_{2}$$Ti、UCo等の水素を吸収するウラン金属化合物では水素が溶解するにつれてUH$$_{3}$$への相分離が進行し、他方、UNiAlではこのような相分離が起きないと言われている。そこで、UNiAl結晶中での水素の占有位置やその占有度を調べるため中性子回折実験を行った。中性子回折測定が容易に行えるよう、本実験では水素の替わりに重水素を用いた。試料は5MPaの高圧重水素下でUNiAlに重水素を吸収させたものである。測定した中性子回折強度パターンをリートベルト解析した結果、UNiAl中に多量(2.2D/UNiAl)の重水素が溶解していることが判明した。また、重水素が溶解してもUH$$_{3}$$相が現れずUNiAlの基本結晶構造を保持していることも確認した。さらに、中性子回折強度データを詳細に解析し、重水素が入り込む位置及びその占有度を求めた結果、U-D結合距離はUH$$_{3}$$のそれに比べ長いことが明らかになった。

口頭

Initial oxidation behavior of Ni$$_{3}$$Al(210) surface induced by supersonic oxygen molecular beam at room temperature

Xu, Y.*; 出村 雅彦*; 寺岡 有殿; 吉越 章隆; 櫻井 惇也*; 平野 敏幸*

no journal, , 

Ni$$_{3}$$Al(210)表面の超音速O$$_{2}$$分子ビーム(2.3eV)による室温酸化を高輝度放射光を利用したリアルタイム光電子分光によって調べた。O 1s, Ni 2p, Al 2p, and Ni 3pスペクトルの分子ビーム照射中の時間発展を調べた。スペクトル分析から、表面のAlとNI原子の両方が酸化され、Alの酸化の方がNiより速いことがわかった。

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